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ARTISTIC&CO ミスアリーヴォ Dear Miss PCS ディアーミス・プロブレム コントロール ソリューション 30ml

ARTISTIC&CO ミスアリーヴォ Dear Miss PCS ディアーミス・プロブレム コントロール ソリューション 30ml

ARTISTIC&Co

¥8,965

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成分詳細

高リスク 1成分
中リスク 1成分
低リスク 16成分

効果効能(6カテゴリ該当)

配合されている成分から、期待できる効果効能カテゴリを表示しています。

#肌荒れ改善4 成分該当

消炎作用や角層代謝の促進、バリア機能の正常化などの働きにより、健やかな角層を育み、保持する成分。

アラントイングリチルリチン酸ジカリウム*カニナバラ果実エキスオウバクエキス
#抗炎症4 成分該当

消炎作用により、肌のハレや赤みを抑える成分。

アラントイングリチルリチン酸ジカリウム*オウバクエキスオウゴンエキス
#ニキビ1 成分該当

皮脂抑制、角質溶解、殺菌などの作用で、ニキビの発生を防ぐ成分。

アラントイン
#角層除去2 成分該当

肌をしなやかで柔軟に整える成分。角層タンパク質を軟化する特性を持つ。

サリチル酸リンゴ酸
#エイジングケア3 成分該当

抗酸化・抗糖化作用などにより、加齢による肌の変化(ハリの低下やクマなど)を抑える成分。

カニナバラ果実エキスオウゴンエキスチャエキス
#生理活性1 成分該当

皮膚組織の活性化、脂肪代謝のコントロール、ホルモン様作用などを通じて、皮膚組織の細胞や代謝機能をサポートする成分。

加水分解酵母エキス

全成分一覧(21件)

#成分名リスク
1水Water低リスク
2ブチレングリコールButylene Glycol低リスク
3グリセリンGlycerin低リスク
4加水分解酵母エキスHydrolyzed Yeast Extract低リスク
5ヒアルロン酸NaSodium Hyaluronate低リスク
6加水分解ヒアルロン酸Hydrolyzed Hyaluronic Acid低リスク
7オウゴンエキスScutellaria Baicalensis Root Extract低リスク
8オウバクエキスPhellodendron Amurense Bark Extract低リスク
9グリチルリチン酸ジカリウム*Dipotassium Glycyrrhizate低リスク
10アラントインAllantoin低リスク
11カニナバラ果実エキスRosa Canina Fruit Extract低リスク
12レモングラスエキスCymbopogon Schoenanthus Extract未解析
13サリチル酸Salicylic Acid高リスク
14N-アセチル-L-グルタミン未解析
15アルギニン乳酸未解析
16グルコースGlucose低リスク
17クエン酸Citric Acid低リスク
18リンゴ酸Malic Acid中リスク
19チャエキス低リスク
20クエン酸ナトリウムSodium Citrate低リスク
21EDTA-2NaEDTA-2Na低リスク
全成分テキスト(原文)
水、BG、グリセリン、加水分解酵母エキス、ヒアルロン酸Na、加水分解ヒアルロン酸、オウゴンエキス、オウバクエキス、グリチルリチン酸2K、アラントイン、カニナバラ果実エキス、レモングラスエキス、サリチル酸、N-アセチル-L-グルタミン、アルギニン乳酸、グルコース、クエン酸、リンゴ酸、チャエキス、クエン酸Na、EDTA-2Na

商品説明

皮脂トラブル肌向けに設計された美容液。サリチル酸とMFAコンプレックス(混合フルーツ酸)を配合し、古い角質を調整しながら、ニキビの炎症を抑える17種類の植物由来成分を含んでいます。高い保湿成分により、乾燥肌の方にも適しています。合成香料・着色料・パラベン・アルコール・鉱物油・オイル・石油系界面活性剤・合成酸化防止剤の8つをフリーにした無添加処方です。

参考文献

化粧品成分辞典

化粧品成分ガイド(第8版)

EWG(Environmental Working Group)データベース

目的別成分情報は、含まれる成分の配合目的に関する情報であり、完成品としての化粧品の性能特性や効果を示すものではありません。また、該当成分が含まれている事実のみを示しており、関連する機能を保証するものではありません。

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