LUNA ロングラスティングチップコンシーラー フィクシングフィット 2号 ベージュ 7.5g
LUNA ロングラスティングチップコンシーラー
¥2,724
成分詳細
高リスク 2成分
中リスク 3成分
低リスク 21成分
効果効能（7カテゴリ該当）
配合されている成分から、期待できる効果効能カテゴリを表示しています。
#肌荒れ改善2 成分該当
消炎作用や角層代謝の促進、バリア機能の正常化などの働きにより、健やかな角層を育み、保持する成分。
スベリヒユエキスツボクサエキス
#抗炎症3 成分該当
消炎作用により、肌のハレや赤みを抑える成分。
カミツレ花エキススベリヒユエキスツボクサエキス
#美白2 成分該当
メラニンの生成抑制、還元、排出促進などの働きにより、表皮に含まれるメラニンの密度を減らし、美白状態を維持する成分。
カミツレ花エキスニコチン酸アミド
#シワ2 成分該当
コラーゲンやエラスチンの分解を促す好中球エラスターゼの活性を抑制し、表皮でのヒアルロン酸産生を促進、保湿作用によりシワを改善・目立たなくする成分。
ニコチン酸アミドアデノシン
#紫外線防御1 成分該当
紫外線を吸収・散乱・反射することで、肌を紫外線から守る成分。
酸化チタン
#エイジングケア1 成分該当
抗酸化・抗糖化作用などにより、加齢による肌の変化（ハリの低下やクマなど）を抑える成分。
ヒポファエラムノイデス果実エキス
#生理活性1 成分該当
皮膚組織の活性化、脂肪代謝のコントロール、ホルモン様作用などを通じて、皮膚組織の細胞や代謝機能をサポートする成分。
アデノシン
全成分一覧（28件）
| # | 成分名 | リスク |
|---|---|---|
| 1 | 水Water | 低リスク |
| 2 | シクロペンタシロキサンCyclopentasiloxane | 中リスク |
| 3 | フェニルトリメチコンPhenyl Trimethicone | 低リスク |
| 4 | タルクTalc | 高リスク |
| 5 | セチルPEG／PPG－10／1ジメチコンCetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone | 中リスク |
| 6 | ブチレングリコールButylene Glycol | 低リスク |
| 7 | PVPPVP | 低リスク |
| 8 | ニコチン酸アミドNiacinamide | 低リスク |
| 9 | ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン)クロスポリマーVinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane Crosspolymer | 低リスク |
| 10 | PEG‐10ジメチコンPEG-10 Dimethicone | 低リスク |
| 11 | 塩化ナトリウムSodium Chloride | 低リスク |
| 12 | ジステアリルジモニウムヘクトライトDisteardimonium Hectorite | 低リスク |
| 13 | トリエトキシカプリリルシランTriethoxycaprylylsilane | 低リスク |
| 14 | 水酸化AlAluminum Hydroxide | 低リスク |
| 15 | p-アニス酸p-Anisic Acid | 低リスク |
| 16 | カプリル酸グリセリルGlyceryl Caprylate | 低リスク |
| 17 | パルミチン酸Palmitic Acid | 低リスク |
| 18 | ジメチコンDimethicone | 中リスク |
| 19 | ステアリン酸Stearic Acid | 低リスク |
| 20 | アデノシンAdenosine | 低リスク |
| 21 | ツボクサエキスCentella Asiatica Extract | 低リスク |
| 22 | スベリヒユエキスPortulaca Oleracea Extract | 低リスク |
| 23 | カミツレ花エキスChamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract | 低リスク |
| 24 | セイヨウニンジンボク果実エキス | 未解析 |
| 25 | ヒポファエラムノイデス果実エキスHippophae Rhamnoides Fruit Extract | 未解析 |
| 26 | 香料Fragrance | 高リスク |
| 27 | 酸化チタンTitanium Dioxide | 低リスク |
| 28 | 酸化鉄Iron Oxides | 低リスク |
全成分テキスト（原文）
水、シクロペンタシロキサン、フェニルトリメチコン、タルク、セチルＰＥＧ／ＰＰＧ－１０／１ジメチコン、ＢＧ、ＰＶＰ、ナイアシンアミド、（ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン）クロスポリマー、ＰＥＧ－１０ジメチコン、塩化Ｎａ、ジステアルジモニウムヘクトライト、トリエトキシカプリリルシラン、水酸化Ａｌ、ｐ－アニス酸、カプリル酸グリセリル、パルミチン酸、ジメチコン、ステアリン酸、アデノシン、ツボクサエキス、スベリヒユエキス、カミツレ花エキス、セイヨウニンジンボク果実エキス、ヒポファエラムノイデス果実エキス、香料、酸化チタン、酸化鉄
商品説明
クマやシミなどの気になる部分をカバーするチップタイプのコンシーラー。ダブルポリマー配合の密着力で肌にフィットし、軽いテクスチャーながら高いカバー力を発揮します。マットな仕上がりで、パフやブラシで調整しながら使用できます。韓国コスメのメイクアイテムとして、部分カバーに適しています。
参考文献
化粧品成分辞典
化粧品成分ガイド（第8版）
EWG（Environmental Working Group）データベース
目的別成分情報は、含まれる成分の配合目的に関する情報であり、完成品としての化粧品の性能特性や効果を示すものではありません。また、該当成分が含まれている事実のみを示しており、関連する機能を保証するものではありません。
